| 主权项 |
1.一种微影装置,其包括: 一用以提供一辐射之投影射束之照明系统; 一用以支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件 用以在该投影射束之截面中赋予该投影射束一图 案; 一用以固持一基板之基板台; 一用以将该图案化射束投影至该基板之一目标部 分之投影系统; 一用以由一浸没液体至少部分地填充该投影系统 与该基板之间的一间隙的液体供给系统;及 一用以在由该液体供给系统供给之该浸没液体两 端施加一第一电位以移动该浸没液体中之气泡及/ 或粒子的电源。 2.如请求项1之装置,其中该第一电位系施加于一第 一物件。 3.如请求项2之装置 ,其中该第一物件与该浸没液 体接触。 4.如请求项2之装置,其中该第一物件形成该间隙之 一边缘。 5.如请求项1之装置,其中该第一电位系施加在该间 隙中之该浸没液体两端。 6.如请求项2之装置,其中该第一物件与在该间隙上 游之一供给通道中之该浸没液体接触。 7.如请求项1之装置,其中该第一电位系施加在该间 隙以外之该浸没液体两端。 8.如请求项7之装置,其中该第一电位系施加在该液 体供给系统中之该浸没液体两端。 9.如请求项1之装置,其中该第一电位以一远离该基 板之方向有效地在该浸没液体中之气泡及/或粒子 上施加一力。 10.如请求项1之装置,进一步包括用以在该浸没液 体两端施加一第二电位之第二构件。 11.如请求项10之装置,其中该第一电位与该第二电 位极性相反。 12.如请求项10之装置,其中该第二电位系施加在该 间隙中之该浸没液体两端。 13.如请求项10之装置,其中该第二电位系施加在该 间隙以外之该浸没液体两端。 14.如请求项10之装置,其中该第二电位系施加于一 第二物件。 15.如请求项14之装置,其中该第二物件形成该间隙 之一边缘。 16.如请求项14之装置,其中该第二物件与在该间隙 上游之一供给通道中之该浸没液体接触。 17.如请求项1之装置,其中该第一电位有效地在该 浸没液体中之气泡及/或粒子上施加一力,该力之 一方向使得当在该间隙中时,该等气泡及/或粒子 将比若不施加电位时更远离该基板。 18.如请求项1之装置,其中该第一电位为在5 mV与5 V之间,较佳地在10 mV与500 mV之间。 19.如请求项1之装置,其中该第一电位有效设定一 高达500 mV/mm之电场。 20.如请求项1之装置,其中该第一电位与在该浸没 液体中之气泡及/或粒子之该表面的该电动电位极 性不同。 21.如请求项10之装置,其中该第二电位与在该浸没 液体中之气泡及/或粒子之该电动电位极性相同。 22.如请求项2之装置,其中该第一物件为该基板。 23.如请求项10之装置,其中该第二物件为该投影系 统之一最终元件。 24.如请求项2之装置,其中该第一物件位于该装置 之该光轴中。 25.如请求项2之装置,其中该第一物件形成该间隙 之一边缘,且定位于该装置之该光轴之末端。 26.如请求项2之装置,其中该第一元件定位于一沿 该间隙之该边界之至少一部分延伸的障壁部件上 。 27.一种微影装置,其包括: 一用以提供一辐射之投影射束之照明系统; 一用以支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件 用以在该投影射束之截面中赋予该投影射束一图 案; 一用以固持一基板之基板台; 一用以将该图案化射束投影至该基板之一目标部 分之投影系统; 一用以由一浸没液体至少部分地填充该投影系统 与该基板之间的一间隙的液体供给系统;及 该液体供给系统具有用以藉由一电压之施加而移 动由该液体供给系统供给的该浸没液体中之气泡 及/或粒子之构件。 28.一种微影装置,其包括: 一用以提供一辐射之投影射束之照明系统; 一用以支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件 用以在该投影射束之截面中赋予该投影射束一图 案; 一用以固持一基板之基板台; 一用以将该图案化射束投影至该基板之一目标部 分之投影系统;及 一用以由一浸没液体至少部分地填充该投影系统 与该基板之间的一间隙的液体供给系统; 其中该液体供给系统包括用以将一电荷施加于一 物件之构件,该电荷与该浸没液体中之气泡之一电 动电位的极性相反,使得由该液体供给系统供给的 该浸没液体中之气泡及/或粒子上具有一在一远离 或朝向该物件之方向上之力。 29.一种微影装置,其包括: 一用以提供一辐射之投影射束之照明系统; 一用以支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件 用以在该投影射束之截面中赋予该投影射束一图 案; 一用以固持一基板之基板台; 一用以将该图案化射束投影至该基板之一目标部 分之投影系统;及 一用以由一浸没液体至少部分地填充该投影系统 与该基板之间的一间隙的液体供给系统;及 该液体供给系统具有一用以在由该液体供给系统 供给的该浸没液体中产生一有效移动该浸没液体 中之气泡及/或粒子之电场的电位场产生器。 30.一种器件制造方法,其包括: 使用一投影系统将一辐射之图案化射束投影至该 基板之一目标部分上; 自一液体供给系统将一浸没液体提供至一在该投 影系统与该基板之间的间隙;及 藉由将一电荷施加于一物件而将一力施加于由该 液体供给系统提供的该浸没液体中之气泡及/或粒 子上。 31.如请求项30之方法,其中该物件形成该间隙之一 边缘。 32.如请求项30之方法,其中该物件与该间隙上游之 一供给通道中之该浸没液体接触。 图式简单说明: 图1描述了根据本发明之一实施例之微影装置; 图2以截面说明了根据本发明之一实施例之液体供 给系统; 图3以平面说明了图2之液体供给系统;及 图4说明了本发明之一实施例;及 图5说明了本发明之另一实施例。 |
