| 主权项 |
1.一种具有润滑性之硬涂覆层的光碟,其为记录及/ 或再生用之光系通过薄膜涂覆层照射至记录层之 方式者,其特征为:于光碟基盘表面所形成之记录 层表面上,经由薄膜覆盖层(Z)而形成下述硬涂覆层 (X)者: 硬涂覆层(X):将含有具有2个以上活性能源射线可 聚合之聚合性官能基之多官能性化合物(A)、经具 有巯基之有机基与加水分解性基及/或羟基系键结 于矽原子之巯基矽烷化合物进行表面改质之平均 粒径为1至200nm之改质胶体状氧化矽(B)、分子内具 有自由基聚合性官能基之由矽酮系化合物所形成 之润滑性赋予剂(C)、以及光聚合起始剂(D1)之活性 能源射线硬化性组成物(Q),其中对100质量份多官能 性化合物(A),改质胶体状氧化矽(B)为5至300质量份, 润滑性赋予剂(C)为0.01至10质量份,且聚合起始剂(D1 )为0.1至20质量份,硬化而得之硬化物层。 2.一种具有润滑性之硬涂覆层的光碟,其为记录及/ 或再生用之光系通过薄膜涂覆层照射至记录层之 方式者,其特征为:于光碟表面所形成之记录层表 面上,经由薄膜覆盖层(Z)而形成下述硬涂覆层(X') 者; 硬涂覆层(X'):将含有聚矽胺烷(H)及分子内具有自 由基聚合性官能基之由矽酮系化合物所形成之润 滑性赋予剂(C')之涂覆组成物(Q')硬化而得之硬化 物层。 3.如申请专利范围第1或2项之光碟,其中,该薄膜覆 盖层(Z)系由含有多官能胺基甲酸酯化合物(E)、具 有1个以上之具有聚环烷结构而活性能源射线可聚 合之聚合性官能基之化合物(F)、及光聚合起始剂( D2)之活性能源射线硬化性组成物(P)硬化而得之硬 化物层。 4.如申请专利范围第3项之光碟,其中,于该活性能 源射线硬化性组成物(P)中,对(E)/(F)/(D2)之合计量100 质量份,(E)为10至80质量份,(F)为20至70质量份,且(D2) 为0.01至20质量份者。 5.如申请专利范围第1项之光碟,其中,该巯基矽烷 化合为下列式(1)所示之化合物: HS-R-SiXnR13-n………(1) 但是,式(1)中HS-R为具有巯羟基之有机基、R为2价烃 基、R1为1价烃基、X为羟基或加水分解性基、n为1 至3之整数。 6.如申请专利范围第1项之光碟,其中,该改质胶体 状氧化矽(B)系于分散胶体状氧化矽之有机分散媒 中添加巯基矽烷化合物并经加水分解而得者。 7.如申请专利范围第1项之光碟,其中,该润滑性赋 予剂(C)之数量平均分子量系1000以上者。 8.如申请专利范围第2项之光碟,其中,该润滑性赋 予剂(C')之数量平均分子量系1000以上者。 9.一种光碟之制造方法,其为申请专利范围第1至8 项中任一项之光碟的制造方法中,于光碟基盘表面 上形成之记录层表面形成该活性能源射线硬化性 组成物(P)之硬化物层(Z),而于该(Z)之表面再形成上 述活性能源射线硬化性组成物(Q)或被覆组成物(Q') 之未硬化物层(X1)或部分硬化物层(X2),继之,将上述 (Q)或(Q')之未硬化物层(X1)或部分硬化物层(X2)加以 硬化,而获得形成有上述薄膜覆盖层(Z)及上述硬涂 覆层(X)或(X')之光碟。 10.一种光碟之制造方法,其为申请专利范围第1至8 项中任一项之光碟的制造方法中,于光碟基盘表面 形成之记录层表面上形成该活性能源射线硬化性 组成物(P)之未硬化物层(Z1)、部分硬化物层(Z2),而 于该(Z1)或该(Z2)之表面再形成上述活性能源射线 硬化性组成物(Q)或被覆组成物(Q')之未硬化物层(X1 )或部分硬化物层(X2),继之,将上述(P)之层与上述(Q) 或(Q')之层同时硬化,而获得形成有上述薄膜覆盖 层(Z)及上述硬涂覆层(X)或(X')之光碟。 |
