| 主权项 |
1.一种微影设备,适于对于一基板进行一微影制程,该微影设备包括:一光阻涂布及显影装置,该基板自该光阻涂布及显影装置移出时,该基板具有一第一温度范围;一曝光装置;以及一气浮输送装置,配置于该光阻涂布及显影装置与该曝光装置之间,而该气浮输送装置适于将该基板输送至该曝光装置,且该气浮输送装置所喷出的气体具有一第二温度范围,其中该第二温度范围为该第一温度范围之部分。2.如申请专利范围第1项所述之微影设备,其中该第一温度范围系介于摄氏22度至摄氏24度之间。3.如申请专利范围第1项所述之微影设备,其中该第二温度范围系介于摄氏22.9度至摄氏23.1度之间。4.如申请专利范围第1项所述之微影设备,其中该光阻涂布及显影装置具有一第一机械手臂,且该第一机械手臂适于将该基板由该光阻涂布及显影装置内移动出。5.如申请专利范围第1项所述之微影设备,更包括一基板暂存架,配置于该光阻涂布及显影装置与该气浮输送装置之间,且该基板暂存架适于接收该基板,并将该基板传送至该气浮输送装置。6.如申请专利范围第5项所述之微影设备,其中该基板暂存架具有多数个气体喷出口,而该基板位于该基板暂存架内时,该些气体喷出口所喷出的气体系吹拂该基板,而该些气体喷出口所喷出的气体具有一第三温度范围,且该第三温度范围为该第一温度范围之部分。7.如申请专利范围第6项所述之微影设备,其中该第三温度范围系介于摄氏22.9度至摄氏23.1度之间。8.如申请专利范围第1项所述之微影设备,更包括一输送装置,配置于该气浮输送装置与该光阻涂布及显影装置之间,而该输送装置适于将该基板自该气浮输送装置输送至该光阻涂布及显影装置。9.如申请专利范围第1项所述之微影设备,更包括一刻字装置,连接至该气浮输送装置,该刻字装置适于在该基板上形成一标记。图式简单说明:图1绘示习知微影设备的示意图。图2绘示依据本发明较佳实施例之微影设备的示意图。图3绘示图2之气浮输送装置的示意图。图4绘示图2之基板暂存架的示意图。 |
