发明名称 | 可避免锁死现象的静电放电装置 | ||
摘要 | 本实用新型是有关于一种可避免锁死现象的静电放电装置,包括一P型基板、一N型井、一第一N+型掺杂区、一第一P+型掺杂区一第二N+型掺杂区、一第二P+型掺杂区、一第三N+型掺杂区、一第三P+型掺杂区、一第一电极以及一第二电极。该N型井是形成于该P型基板中。该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区均形成于该N型井中并相互以一第三场氧化层隔离。该第二N+型掺杂区是形成于该第一P+型掺杂区与一第一场氧化层之间。该第二N+型掺杂区是与该第一P+型掺杂区相邻接。当一电源电压未供应至该静电放电装置时,其具有等效硅控整流器(SCR)结构;当该电源电压供应至该静电放电装置时,其具有等效PN二极管结构,因此可以避免静电放电装置的锁死现象。 | ||
申请公布号 | CN2831437Y | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
申请号 | CN200520114894.3 | 申请日期 | 2005.07.27 |
申请人 | 崇贸科技股份有限公司 | 发明人 | 黄志丰;杨大勇;林振宇;简铎欣 |
分类号 | H01L23/60(2006.01) | 主分类号 | H01L23/60(2006.01) |
代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
主权项 | 1.一种可避免锁死的静电放电装置,其特征在于其包括:一P型基板;一N型井,形成于该P型基板中;一第一N+型掺杂区,形成于该N型井中;一第一P+型掺杂区,形成于该N型井中;一第二N+型掺杂区,形成于该第一P+型掺杂区与一第一场氧化层之间;一第三N+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三N+型掺杂区与该N型井不相接触;一第二P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第二P+型掺杂区与该N型井不相接触;一第一电极,其经由一第一电性导体连接该第二P+型掺杂区与该第三N+型掺杂区;一第二电极,其经由一第二电性导体连接该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区;以及一第三P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型井外,其中该第三P+型掺杂区是以该第一场氧化层与该第二N+型掺杂区隔开,其中当该静电放电装置于未供应电源状态下,该第三P+型掺杂区是为浮接状态,当该静电放电装置于电源供应状态下,该第三P+型掺杂区是连接至一最低电位。 | ||
地址 | 中国台湾 |