| 发明名称 | 薄膜晶体管的制造方法、薄膜晶体管、集成电路、液晶显示装置和使用了网目调型掩模的曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于形成完全贯通抗蚀剂的接触孔。薄膜晶体管的制造方法都包含在经掩模将来自光源的光线照射到玻璃基板的抗蚀剂上后对该抗蚀剂进行显影而在上述抗蚀剂上形成接触孔的工序，使用i线作为上述光线。 | ||
| 申请公布号 | CN1847986A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200610071921.2 | 申请日期 | 2006.04.03 |
| 申请人 | 株式会社液晶先端技术开发中心 | 发明人 | 山口弘高;松村正清;谷口幸夫 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L29/786(2006.01);G02F1/136(2006.01);G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种薄膜晶体管的制造方法，其特征在于：包含在经掩模将来自光源的光线照射到在玻璃基板上设置的感光材料膜上后，通过对上述感光材料膜进行显影，在上述感光材料膜上形成接触孔的工序，上述光线是i线，上述掩模的用于曝光接触孔的掩模图案是包含长方形状的光透过区域和光遮蔽区域的某一方的接触孔图案，上述长方形状的图案的形状是该图案的长边方向的长度尺寸大于等于短边方向的长度尺寸的1.4倍。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||