| 发明名称 | 用于声场均匀性的声扩散器 | ||
| 摘要 | 用于处理半导体晶片的设备和方法。在一个实施方案中，该设备包括：一浸没处理容器(10)，在该浸没处理容器中，在处理期间一个或多个晶片(16)设置在处理液(18)中；至少一个声源(22)，它与处理液(18)声学耦合并且在处理期间在装在处理容器(10)中的处理液(18)中产生出一声场；以及一声扩散系统(28)，它包括多个按照有效地使从声源(22)传送给处理液(18)的声能扩散的方式设置的声扩散元件。在另一个实施方案中，该声扩散系统(28)包括至少一个按照有效地减小在处理液(18)中的声能干涉的方式设置的定向相位调制元件。本发明还描述了相关的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1849183A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200480026073.2 | 申请日期 | 2004.09.10 |
| 申请人 | FSI国际公司 | 发明人 | K·K·克里斯滕森 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01);H01L21/00(2006.01);B01J19/10(2006.01) | 主分类号 | B08B3/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 寇英杰 |
| 主权项 | 1.一种用于浸没处理晶片的设备，该设备包括：一浸没处理容器，在其中在处理期间将一个或多个晶片设置在处理液中；至少一个声源，它与处理液声学耦合并且在处理期间在装在处理容器中的处理液中产生出一声场；以及一声扩散系统，它包括多个按照用来使从声源传送给处理液的声能扩散的方式设置的声扩散元件。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达 | ||