| 发明名称 | 青霉烷酸化合物的制备方法 | ||
| 摘要 | 以通式(2)表示的青霉烷酸化合物的制备方法，其特征在于：在(a)金属铋或者铋化合物的存在下，使以式(1)表示的卤化青霉烷酸化合物与(b)标准氧化还原电位低于铋的金属反应。(式(1)中，X以及Y表示氢原子、卤原子。但是，除去同时为氢原子的情况。n表示0～2的整数。R表示羧酸保护基。)(式(2)中，n以及R与上述相同) 。 | ||
| 申请公布号 | CN1845929A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200480025312.2 | 申请日期 | 2004.09.02 |
| 申请人 | 大塚化学株式会社;大鹏药品工业株式会社 | 发明人 | 德丸祥久;斋藤纪雄;秋月诚 |
| 分类号 | C07D499/00(2006.01) | 主分类号 | C07D499/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1、以通式(2)表示的青霉烷酸化合物的制备方法，其特征在于：在(a)金属铋或者铋化合物的存在下，使以式(1)表示的卤化青霉烷酸化合物与(b)标准氧化电位低于铋的金属反应，<img file="A2004800253120002C1.GIF" wi="477" he="262" />式中，X以及Y表示氢原子、卤原子，但是，除去同时为氢原子的情况，n表示0～2的整数，R表示羧酸保护基，<img file="A2004800253120002C2.GIF" wi="501" he="272" />式中，n以及R与上述相同。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||