| 主权项 |
1.一种投影系统(Projecting system),该投影系统系用以投射一影像(Image)至一萤幕(Screen)的N个区域(Region)上,其中N为一大于1之整数,该投影系统包含:一处理装置(Processing apparatus),该处理装置用以分割该影像为N个子影像(Sub-image);N个投射装置(Projecting apparatus),该N个投射装置用以分别接收该N个子影像,该等子影像中之每一个子影像系对应该N个区域中之一个区域,每一个投射装置将该接收到的子影像投影至该萤幕上之该对应的区域上;以及至少一感测装置(Sensing device),该至少一感测装置用以感测被投射之该N个子影像,并传送所感测之该N个子影像至该处理装置;其中该处理装置进一步计算该被感测之N个子影像间之复数个校正差异値(Alignment differences),并根据该复数个校正差异値,调整被投射至该萤幕上之该N个子影像,以消除该复数个校正差异値。2.如申请专利范围第1项所述之投影系统,其中该处理装置进一步于该N个子影像中之每一个子影像中皆混合一校正影像(Alignment image),并且输出该N个被混合后之子影像至该N个投射装置。3.如申请专利范围第2项所述之投影系统,其中该校正影像系为一网格影像(Mesh image),该网格影像之大小系与该N个子影像之大小相同。4.如申请专利范围第2项所述之投影系统,其中该校正影像系一边缘标记影像(Edge mark image),该边缘标记影像系将该N个子影像中至少一边缘混合至该边缘标记影像。5.如申请专利范围第1项所述之投影系统,其中该N个投射装置中每一个投射装置系将一校正影像混合于该N个子影像中,并且投射被混合后之该N个子影像。6.如申请专利范围第5项所述之投影系统,其中该校正影像系利用一不可见光(Invisible ray)进行投射。7.如申请专利范围第1项所述之投影系统,其中该处理装置系选择性地调整被投射于该萤幕上之该N个子影像之位置、尺寸、梯形畸变或亮度。8.如申请专利范围第7项所述之投影系统,其中该N个投射装置系根据该处理装置之复数个指令以调整被投射之该N个子影像。9.如申请专利范围第7项所述之投影系统,其中该处理装置调整该N个子影像并传送该被调整之该N个子影像至该N个投射装置。10.一种投影方法(Projecting method),该投影方法系用以投射一影像(Image)至一萤幕(Screen)的N个区域(Region)上,其中N为一大于1之整数,该投影方法包含下列步骤:(a)分割该影像为N个子影像(Sub-image);(b)分别投射该N个子影像至该萤幕之该N个区域上;(c)感测被投射之该N个子影像;(d)计算被感测之该N个子影像间之复数个校正差异値(Alignment differences);以及(e)根据该复数个校正差异値,调整被投射至该萤幕上之该N个子影像,以消除该复数个校正差异値。11.如申请专利范围第10项所述之投影方法,其中步骤(a)中进一步包含下列步骤:(a1)混合一校正影像(Alignment image)至该N个子影像中之每一个子影像。12.如申请专利范围第11项所述之投影方法,其中该校正影像系利用一不可见光(Invisible ray)进行投射。13.如申请专利范围第10项所述之投影方法,其中步骤(e)中进一步包含下列步骤:(e1)选择性地调整被投射于该萤幕上之该N个子影像之位置、尺寸、梯形畸变或亮度。14.一种投影系统(Projecting system),该投影系统系用以传送一第一子影像(Sub-image)至一第一投射装置(Projecting apparatus)以及一第二子影像至一第二投射装置,该第一投射装置及该第二投射装置系分别投射该第一子影像及该第二子影像于一萤幕(Screen)上成一第一投射子影像以及一第二投射子影像,该投影系统包含:一感测装置(Sensing device),该感测装置用以感测该第一投射子影像以及该第二投射子影像成一第一感测子影像以及一第二感测子影像;以及一处理装置(Processing apparatus),该处理装置用以接收一原始影像(Original image),并且分割该原始影像为该第一子影像以及该第二子影像,该处理装置自该感测装置接收该第一感测子影像以及该第二感测子影像,以计算该第一感测子影像与该第二感测子影像两者间之一校正差异値(Alignment difference),并且根据该校正差异値,调整该第一投射子影像及该第二投射子影像,以消除该校正差异値。15.如申请专利范围第14项所述之投影系统,其中该处理装置将一校正影像(Alignment image)混合至该第一子影像以及该第二子影像中,并且传送混合该校正影像之该第一子影像至该第一投射装置,传送混合该校正影像之该第二子影像至该第二投射装置中。16.如申请专利范围第15项所述之投影系统,其中该校正影像系为一网格影像(mesh image),该网格影像之尺寸系与该第一子影像以及该第二子影像之尺寸相同。17.如申请专利范围第15项所述之投影系统,其中该校正影像系一边缘标记影像(Edge mark image),该边缘标记影像系分别将该第一子影像及该第二子影像中至少一边缘混合至该边缘标记影像。18.如申请专利范围第14项所述之投影系统,其中该第一投射装置系将一校正影像混合于该第一子影像中,并且投射被混合之该第一子影像,该第二投射装置系将该校正影像混合于该第二子影像中,并且投射被混合之该第二子影像。19.如申请专利范围第18项所述之投影系统,其中该校正影像系利用一不可见光(Invisible ray)进行投射。20.如申请专利范围第14项所述之投影系统,其中该处理装置系选择性地分别调整被投射于该萤幕上之该第一子影像与该第二子影像之位置、尺寸、梯形畸变或亮度。21.如申请专利范围第20项所述之投影系统,其中该第一投射装置与该第二投射装置系根据该处理装置之复数个指令分别调整该第一投射子影像与该第二投射子影像。22.如申请专利范围第20项所述之投影系统,其中该处理装置系调整该第一子影像并传送该被调整之该第一子影像至该第一投射装置,该处理装置并调整该第二子影像并传送该被调整之该第二子影像至该第二投射装置。图式简单说明:图一为根据本发明之第一较佳具体实施例之投影系统10的示意图。图二A至图二D系显示校正差异的种类、撷取方式之若干范例。图三系显示该等子影像混合边缘标记影像之范例。图四为根据本发明之投影方法的步骤流程图。图五为根据本发明之第二较佳具体实施例之投影系统50的示意图。 |
