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发明名称 Chemical deposition reactor and method of forming a thin film using the same
摘要
申请公布号 KR100624030(B1) 申请公布日期 2006.09.19
申请号 KR20000033548 申请日期 2000.06.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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