多重曝光之半导体制造光罩组及制造该等多重曝光光罩组之方法

摘要

本发明提供光罩组，其在半导体元件制造期间可用于界定一具有一第一间距图案之第一图案区，与一具有一第二间距图案之第二图案区。该等光罩组可包括一具有一第一曝光区之第一光罩，其中一第一半色调图案界定该第一图案区；及一第一遮光区，其中一第一屏蔽层覆盖该第二图案区。该等光罩组可进一步包括一具有一第二曝光区之第二光罩，其中一第二半色调图案界定该第二图案区；及一第二遮光区，其中一第二屏蔽层覆盖该第一图案区。该第二屏蔽层亦自该第二遮光区延伸以覆盖该第二半色调图案之一部分。