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经营范围
发明名称
磁阻结构、磁阻元件、与记忆单元
摘要
一种非平面之磁阻结构。上述结构之实施例包括一个以上之弯曲部分,介于第一部分与第二部分之间,其中第一部分稍微与基底呈垂直,而第二部分稍微与基底呈水平。上述结构可用于记忆元件,如:MRAM记忆元件,在不减少表面积之情况下,与先前平面磁阻结构相比,其记忆密度增加。
申请公布号
TW200633279
申请公布日期
2006.09.16
申请号
TW094134774
申请日期
2005.10.05
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
林俊杰
分类号
H01L43/00
主分类号
H01L43/00
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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