发明名称 |
半导体装置与浮动栅极存储器 |
摘要 |
本发明提供一种半导体装置与浮动栅极存储器,该半导体装置与浮动栅极存储器包括一栅极结构,其包括:位于一基底上的一穿隧氧化层;位于穿隧氧化层上的一浮动栅极;位于浮动栅极上的一介电层;以及位于介电层上的一控制栅极。半导体装置更包括:沿着栅极结构相对边缘的间隙壁;一第一杂质区,其具有第一型掺杂物并从栅极结构的一第一边缘侧向分隔;以及一第二杂质区,其具有与第一型相反的一第二型掺杂物,且其大体位于一间隙壁下方并大体对准于该栅极结构的一第二边缘。本发明所述的半导体装置与浮动栅极存储器可快速编程,并且可达成多种电位的编程以表示出多种的储存状态。 |
申请公布号 |
CN1832200A |
申请公布日期 |
2006.09.13 |
申请号 |
CN200510114470.1 |
申请日期 |
2005.10.27 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
赖理学;陈宏玮;李文钦;季明华 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01);H01L27/105(2006.01);H01L27/115(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01) |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇;张久安 |
主权项 |
1.一种半导体装置,其特征在于,所述半导体装置包括:一基底;一栅极结构,包括:一穿隧氧化层,位于该基底上;一浮动栅极,位于该穿隧氧化层上;一介电层,位于该浮动栅极上;以及一控制栅极,位于该介电层上;一第一杂质区,其具有第一型掺杂物,并与该栅极结构的一第一边缘侧向分离;以及一第二杂质区,其具有与该第一型掺杂物相反的一第二型掺杂物,且其位于一间隙壁下方并对准于该栅极结构的一第二边缘。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号 |