发明名称 半导体装置与浮动栅极存储器
摘要 本发明提供一种半导体装置与浮动栅极存储器,该半导体装置与浮动栅极存储器包括一栅极结构,其包括:位于一基底上的一穿隧氧化层;位于穿隧氧化层上的一浮动栅极;位于浮动栅极上的一介电层;以及位于介电层上的一控制栅极。半导体装置更包括:沿着栅极结构相对边缘的间隙壁;一第一杂质区,其具有第一型掺杂物并从栅极结构的一第一边缘侧向分隔;以及一第二杂质区,其具有与第一型相反的一第二型掺杂物,且其大体位于一间隙壁下方并大体对准于该栅极结构的一第二边缘。本发明所述的半导体装置与浮动栅极存储器可快速编程,并且可达成多种电位的编程以表示出多种的储存状态。
申请公布号 CN1832200A 申请公布日期 2006.09.13
申请号 CN200510114470.1 申请日期 2005.10.27
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 赖理学;陈宏玮;李文钦;季明华
分类号 H01L29/788(2006.01);H01L27/105(2006.01);H01L27/115(2006.01) 主分类号 H01L29/788(2006.01)
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人 刘新宇;张久安
主权项 1.一种半导体装置,其特征在于,所述半导体装置包括:一基底;一栅极结构,包括:一穿隧氧化层,位于该基底上;一浮动栅极,位于该穿隧氧化层上;一介电层,位于该浮动栅极上;以及一控制栅极,位于该介电层上;一第一杂质区,其具有第一型掺杂物,并与该栅极结构的一第一边缘侧向分离;以及一第二杂质区,其具有与该第一型掺杂物相反的一第二型掺杂物,且其位于一间隙壁下方并对准于该栅极结构的一第二边缘。
地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号