| 主权项 |
1.一种光碟制造用母盘之制作方法,其特征为包含有:曝光步骤,对形成于基板上之无机抗蚀剂层,照射依与形成于上述光碟上之资讯凹凸图案之资讯讯号相对应的资讯讯号而调变的记录用雷射光,以形成对应上述光碟之上述资讯凹凸图案的曝光图案;及而后之显像步骤,对上述无机抗蚀剂层进行显像处理,以形成对应上述无机抗蚀剂层之上述资讯凹凸图案的曝光图案;且在上述曝光步骤中,对上述无机抗蚀剂层之特定区域照射评价用雷射光,利用该评价用雷射光之反射光,评价上述无机抗蚀剂层之上述曝光图案的资讯讯号特性,藉由根据该评价结果进行上述记录用雷射光之功率控制。2.如申请专利范围第1项之光碟制造用母盘之制作方法,其中上述无机抗蚀剂层系包含过渡金属之不完全氧化物的抗蚀剂层。3.如申请专利范围第1项之光碟制造用母盘之制作方法,其中照射上述评价用雷射光之特定区域,系上述无机抗蚀剂之上述记录用雷射光之照射区域以外的区域。4.如申请专利范围第1项之光碟制造用母盘之制作方法,其中一面照射上述记录用雷射光,而一面将上述评价用雷射光之照射,照射在上述记录用雷射光之照射位置附近。5.如申请专利范围第1项之光碟制造用母盘之制作方法,其中一面照射上述记录用雷射光而一面将所照射之上述评价用雷射光,照射在上述记录用雷射光之照射位置附近之上述记录用雷射光的未曝光区域及曝光区域,且依来自上述评价用雷射光之上述未曝光区域的反射光量与来自上述曝光区域之反射光量的比,来评价上述无机抗蚀剂层之上述曝光图案的资讯讯号特性。6.如申请专利范围第5项之光碟制造用母盘之制作方法,其中进行上述记录用雷射光之功率控制,俾使上述反射光量之比成为一定。7.一种光碟之制造方法,其特征为:具有光碟制造用母盘之制作步骤、从上述母盘转印制作上述光碟制造用之压模的压模制作步骤.依上述压模来转印制造光碟基板的步骤、该光碟基板上之反射膜的成膜步骤、及保护膜之成膜步骤;且上述母盘之制作步骤,系具有:曝光步骤,对形成于基板上之无机抗蚀剂层,照射依与形成于上述光碟上之资讯凹凸图案之资讯讯号相对应的资讯讯号而调变的记录用雷射光,以形成对应上述光碟之上述资讯凹凸图案的曝光图案;及而后之对上述无机抗蚀剂层进行显像处理,以形成对应上述无机抗蚀剂层之上述资讯凹凸图案的曝光图案之步骤;且在上述曝光步骤中,对上述无机抗蚀剂层之特定区域照射评价用雷射光,利用该评价用雷射光之反射光,评价上述无机抗蚀剂层之上述曝光图案的记录讯号特性,藉由根据该评价结果进行上述记录用雷射光之功率控制。8.如申请专利范围第7项之光碟之制造方法,其中上述无机抗蚀剂层系包含过渡金属之不完全氧化物的抗蚀剂层。图式简单说明:图1A至图1J系本发明之光碟制造用母盘之制作及光碟之制造步骤图。图2系显示在适用本发明之抗蚀剂层曝光步骤中所用之曝光装置的模式图。图3系显示在本发明之光碟制造用母盘之制作方法及光碟之制造方法中曝光时之记录功率及曝光前后之反射比率的关系示意图。图4系显示在本发明之光碟制造用母盘之制作方法及光碟之制造方法中曝光母盘之反射率比与光碟之记录讯号之不对称的关系示意图。图5系显示本发明方法之一实施形态例的曝光态样示意图。图6系显示在内周、外周之记录灵敏度不同之抗蚀剂基板中曝光时之记录功率与曝光前后之反射率比的关系示意图。图7系显示在使用内周、外周之记录灵敏度不同之抗蚀剂基板的情况曝光母盘之反射率比与光碟之记录讯号之不对称的关系示意图。图8系本发明方法之另一实施形态例的曝光态样示意图。图9系显示在适用本发明方法之情况光碟之半径方向中的不对称测定结果示意图。图10A、10B系显示供本发明之说明用之曝光母盘上的曝光图案之凹坑串与依此产生之再生讯号(反射光量)的关系示意图。图11系依供本发明之说明用之曝光母盘上的曝光图案产生之再生讯号的波形图。图12A至图12C系分别显示相对于抗蚀剂基板之曝光讯号脉冲的示意图。图13A至图13J系习知之光碟的制造步骤图。 |
