| 主权项 |
1.一种包含基材之电照相叠层膜,其中该基材之至 少一表面的表面电阻系在108至1013欧姆/之范围 内,及该基材之维卡(Vicat)软化温度系在70至130℃之 范围内。 2.根据申请专利范围第1项之电照相叠层膜,其包括 设置在与形成影像之基材表面相对之基材表面上 之功能调整构件,其中该功能调整构件具有选自调 整光泽度、耐光性、抗微生物性、阻燃性、释离 性及带电性之至少一功能。 3.根据申请专利范围第1项之电照相叠层膜,其中该 基材系为透明。 4.根据申请专利范围第1项之电照相叠层膜,其中该 基材包含具有不含氯之树脂为其主成份之树脂。 5.一种电照相叠层膜,包括一基材及设置于基材之 一表面上之至少一涂层,其中该至少一涂层之至少 一最外部表面的表面电阻系在108至1013欧姆/之 范围内,及该基材之维卡软化温度系在70至130℃之 范围内。 6.根据申请专利范围第5项之电照相叠层膜,其中该 至少一涂层包括含树脂及填料之影像接受层。 7.根据申请专利范围第6项之电照相叠层膜,其中包 含于影像接受层中之该树脂系为聚酯树脂。 8.根据申请专利范围第5项之电照相叠层膜,其中该 至少一涂层包含选自由带电调节剂、抗微生物剂 、UV射线吸收剂及抗氧化剂所组成之群之至少一 者。 9.根据申请专利范围第5项之电照相叠层膜,其中该 基材系为透明。 10.根据申请专利范围第5项之电照相叠层膜,其中 该基材包含具有不含氯之树脂为其主成份之树脂 。 11.根据申请专利范围第5项之电照相叠层膜,其包 括设置在与形成影像之基材表面相对之基材表面 上之功能调整构件,其中该功能调整构件具有选自 调整光泽度、耐光性、抗微生物性、阻燃性、释 离性及带电性之至少一功能。 12.一种制造电照相叠层膜之方法,经由使用涂布溶 液于在基材表面上形成涂层及功能调整构件之至 少一者,其中使用于涂布溶液中之溶剂系基材表面 之良好溶剂,及边使基材表面溶解边形成涂层及功 能调整层之至少一者。 13.一种经由使用其中基材之至少一表面之表面电 阻系在108至1013欧姆/之范围内及基材之维卡软 化温度系在70至130℃之范围内之电照相叠层膜而 形成一影像之方法,其中形成于电照相叠层膜之一 表面上之有机颜料影像系经形成为镜像,以致影像 形成表面系为叠层表面。 14.根据申请专利范围第13项之形成一影像之方法, 其中在电照相叠层膜之表面温度为130℃或以下进 行形成于电照相叠层膜之表面上之有机颜料影像 的定影。 15.一种经由使用包含基材及设置于基材之一表面 上之至少一涂层之电照相叠层膜而形成一影像之 方法,其中该至少一涂层之至少一最外部表面之表 面电阻系在108至1013欧姆/之范围内,及该基材之 维卡软化温度系在70至30℃之范围内,及其中形成 于电照相叠层膜之一表面上之有机颜料影像系经 形成为镜像,以致影像形成表面系为叠层表面。 16.根据申请专利范围第15项之形成一影像之方法, 其中在电照相叠层膜之表面温度为130℃或以下进 行形成于电照相叠层膜之表面上之有机颜料影像 的定影。 17.一种影像形成装置,包括一电照相光接收器、一 用于充电光接收器之充电单元、一用于在经带电 之光接收器上形成静电潜像之潜像形成装置、一 利用有机颜料使潜像显影之显影装置及一将形成 于光接收器上之有机颜料影像转移至记录媒体上 之转移装置,其中该记录媒体系其中基材之至少一 表面之表面电阻在108至1013欧姆/之范围内及基 材之维卡软化温度在70至130℃之范围内的电照相 叠层膜,及其中形成于电照相叠层膜之一表面上之 有机颜料影像系经形成为镜像,以致影像形成表面 系为叠层表面。 18.根据申请专利范围第17项之影像形成装置,其中 在电照相叠层膜之表面温度为130℃或以下进行形 成于电照相叠层膜之表面上之有机颜料影像的定 影。 19.一种影像形成装置,包括一电照相光接收器、一 用于使光接收器带电之充电单元、一用于在经带 电之光接收器上形成静电潜像的潜像形成装置、 一利用有机颜料使潜像显影之显影装置及一将形 成于光接收器上之有机颜料影像转移至记录媒体 上之转移装置,其中该记录媒体系包含基材及设置 于基材之一表面上之至少一涂层的电照相叠层膜, 其中该至少一涂层之至少一最外部表面的表面电 阻系在108至1013欧姆/之范围内,及该基材之维卡 软化温度系在70至130℃之范围内,及其中形成于电 照相叠层膜之一表面上之有机颜料影像系经形成 为镜像,以致影像形成表面系为叠层表面。 20.根据申请专利范围第19项之影像形成装置,其中 在电照相叠层膜之表面温度为130℃或以下进行形 成于电照相叠层膜之表面上之有机颜料影像的定 影。 图式简单说明: 图1系概略显示本发明之电照相叠层膜之一例子的 立体图式。 |
