| 发明名称 | 激光照射方法和激光照射器件以及制造半导体器件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的特征在于通过倾斜入射到凸透镜的激光束，出现诸如像散等的像差，并且激光束的形状在照射表面或其周围区域内形成线状。由于本发明具有非常简单的结构，光线调节较容易，并且器件尺寸变小。此外，由于光束相对于被照体倾斜入射，可防止返回光束。 | ||
| 申请公布号 | CN1828834A | 申请公布日期 | 2006.09.06 |
| 申请号 | CN200610006425.9 | 申请日期 | 2002.09.25 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 田中幸一郎;宫入秀和;志贺爱子;下村明久;矶部敦生 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01);H01L21/268(2006.01);B23K26/073(2006.01);B23K101/40(2006.01) | 主分类号 | H01L21/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;陈景峻 |
| 主权项 | 1.一种激光照射器件，包含：一激光器；和一衍射光学器件，其中所述衍射光学器件被这样放置，使得所述激光器发射的激光束相对于被照表面倾斜入射。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||