| 发明名称 | 用于形成抗反射涂层的聚合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了用于形成有机抗反射涂层的聚合物以及包含该聚合物的组合物，其中该有机抗反射涂层位于蚀刻层和光刻胶层之间，并且在光刻过程中吸收照射光。该用于形成有机抗反射涂层的聚合物具有如式1和通式2所示的重复单元，其中R<SUB>1</SUB>为取代的或未取代的C<SUB>1</SUB>－C<SUB>5</SUB>烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1828414A | 申请公布日期 | 2006.09.06 |
| 申请号 | CN200610058604.7 | 申请日期 | 2006.03.02 |
| 申请人 | 株式会社东进世美肯 | 发明人 | 金相廷;金德倍;金宰贤 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/09(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王达佐;韩克飞 |
| 主权项 | 1.用于形成有机抗反射涂层的聚合物，包含以下式1和通式2所示的重复单元，[式1]<img file="A2006100586040002C1.GIF" wi="662" he="657" />[通式2]<img file="A2006100586040002C2.GIF" wi="443" he="411" />其中，R<sub>1</sub>为取代的或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>烷基。 | ||
| 地址 | 韩国仁川广域市 | ||