| 发明名称 | 面形状形成方法及其装置、磁头飞行面形成方法及其装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种面形状形成装置，该装置包括：对蚀刻对象(1)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成装置(2)、以及对形成有保护层的蚀刻对象(1)的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻装置，其中，保护层形成装置(2)包括：对蚀刻对象(1)的规定表面喷射保护层材料A从而形成规定形状的保护层的保护层喷射装置(2)。本发明的面形状形成装置在短时间内低成本地形成蚀刻对象的面形状，并实现所形成的面形状的高精度化。 | ||
| 申请公布号 | CN1825436A | 申请公布日期 | 2006.08.30 |
| 申请号 | CN200610005989.0 | 申请日期 | 2006.01.16 |
| 申请人 | 新科实业有限公司 | 发明人 | 伊藤善映;中田刚;上田国博 |
| 分类号 | G11B5/60(2006.01);G11B5/127(2006.01) | 主分类号 | G11B5/60(2006.01) |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人 | 郝传鑫 |
| 主权项 | 1.一种面形状形成方法，其包括：对蚀刻对象(Etching object)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成工序、以及对所述形成有保护层的蚀刻对象的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻工序，其特征在于：在所述保护层形成工序中，对所述蚀刻对象的规定表面喷射保护层材料从而形成所述规定形状的保护层。 | ||
| 地址 | 香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心 | ||