用于制作隔离壁的曝光方法

摘要

一种用于制作隔离壁的曝光方法，是于一基板表面涂布正型光阻以形成一光阻膜，再于光阻膜上方设置一光罩，接着，以紫外线做为曝光射线，且紫外线分别以与光罩表面夹一预定角度的方式，先后进行第一次曝光与第二次暴光，以便于以后的显影处理后，可于基板上形成倒梯形的隔离壁。

主权项

1.一种用于制作隔离壁的曝光方法，其特征在于，包含下列步骤：涂布一正型光阻于一基板表面；于该正型光阻上方设置一光罩，该光罩具有一可透光区与一不可透光区；使一第一射线以与该光罩表面夹一θ1角度的方式照射该光罩，该第一射线经过该可透光区并照射于该正型光阻；使一第二射线以与该光罩表面夹一θ2角度的方式照射该光罩，该第二射线经过该可透光区并照射于该正型光阻。