| 发明名称 | 对焦测试掩模、对焦测定方法和曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种对焦测试掩模，其上设置有通过投影光学系统(PL)向晶片(W)上投影的测试图形，该测试图形包括：在计测方向上并列配置的多个线条图形(12a～12f)、设置在多个线条图形各自近旁的区域且是用于使通过光的相位错开的相位移动部(13)和用于得到在测定所述线条图形的像的偏移时的成为基准像的基准图形(11a～11d)，这些多个线条图形的间隔被设定成能把各自的线条图形看作是与孤立线等效的间隔。 | ||
| 申请公布号 | CN1813338A | 申请公布日期 | 2006.08.02 |
| 申请号 | CN200480018268.2 | 申请日期 | 2004.07.01 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 近藤信二郎 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F1/08(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李贵亮;杨梧 |
| 主权项 | 1、一种对焦测试掩模，其是设置有通过投影光学系统向基板上投影的测试图形，其中，所述测试图形包括：在计测方向上并列配置的多个线条图形；设置在所述多个线条图形各自近旁的区域且是用于使通过光的相位错开的相位移动部；用于得到在测定所述线条图形的像的偏移时成为基准像的基准图形，所述多个线条图形的间隔被设定成能把各自线条图形看作是与孤立线等效的大小。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||