| 摘要 |
本发明之实施例系有关于一种将电浆局限在电浆制程腔体之制程区域内的方法与设备。设备可包含环状环，其与腔体壁之间具有介于大约0.8英寸与大约1.5英寸之间的间隙距离。除了利用环状电浆局限环，在电浆制程期间亦可利用将供给至顶电极的电压减少一个电压比率并以负相供给施予顶电极之剩余电压于基板支持件与基板(若基板出现在制程期间)以局限电浆。电压比率可利用改变基板支持件与环绕顶电极之介电密封垫的阻抗而加以调整。将顶电极电压降低一个电压比率以及以负相供给施予顶电极之剩余电压至基板支持件上可减少电浆被吸引至接地腔体壁之数量，进而改进电浆局限。此电浆局限方法亦称为阻抗局限。电浆局限可利用上述环状环、阻抗局限方案或二者之组合而加以改进。 |
