| 摘要 |
本发明系关于一种微影装置，其包括一用于提供一辐射束之辐射系统及一用于支撑一图案化设备之第一支撑件。该图案化设备用于图案化该辐射束。该装置包括一用于支撑一基板之第二支撑件、一用于将经图案化之射束投射至该基板之一目标部分上之投影系统及一用于提供一干涉量测束之干涉仪量测系统，该量测射束沿于该投影系统下方延伸之狭长体积的气体中之一轴线延伸。该装置亦包括一用于在该体积中提供一经调节之气体流动的气体调节结构。该气体调节结构包括安置于该结构之一出口处，用于将气体流动向该体积导引之复数个气体导引叶片。该等气体导引叶片形状连续且经定向以远离该体积之该轴线发散。 |
