| 摘要 |
一用以将材料沉积在一基材上之方法及系统之特性系在于：以液体来填充一基材的凹部以及利用流体亦即施加一真空或一流体喷注来移除位于凹部外之基材上所出现的材料。因此，本发明的一方法系包括将液体的一分量沉积在一其中形成有一凹部之基材的一表面上以液体的一部分来侵入凹部的一容积。一数量的液体系配置在紧邻于凹部之表面的区域上。其后，该数量的液体系被移除同时使该部分维持在该容积内。利用此方式，该部分可被转移至一额外基材上。更确切言之，该部分可放置成接触一层可流动材料且藉由使液体及可流动材料曝露于光化辐射而与其交联。 |
