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发明名称 METHODS OF SELECTIVE DEPOSITION OF HEAVILY DOPED EPITAXIAL SIGE
摘要
申请公布号 EP1680808(A1) 申请公布日期 2006.07.19
申请号 EP20040784661 申请日期 2004.09.21
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 KIM, YIHWAN;SAMOILOV, ARKADII, V.
分类号 H01L21/20;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/20;C30B25/08;C30B29/52 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
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