发明名称 | 光罩与应用其形成多晶矽层之方法 | ||
摘要 | 一种光罩及应用其形成多晶矽层的方法。其中光罩包括一第一区域、一第二区域、一第三区域及一第四区域。第一区域具有数个第一条状不透光区及数个第一条状间隙,第一条状间隙系与第一条状不透光区平行且交错排列。第二区域具有数个第二条状不透光区及数个第二条状间隙,第二条状间隙系与第二条状不透光区平行且交错排列,第二条状间隙系与第一条状间隙平行。第三区域系位于第一区域及第二区域之间,并具有数个第三条状不透光区及数个第三条状间隙。第三条状间隙系与第三条状不透光区平行且交错排列,第三条状间隙系与第一条状间隙垂直或相对倾斜一角度。第四区域系位于第二区域及第三区域之间,并具有数个第四条状不透光区及数个第四条状间隙。第四条状间隙系与第四条状不透光区平行且交错排列,第四条状间隙系与第三条状间隙平行。形成多晶矽层之方法包括,在一基板上形成一非晶矽层。接着,利用光罩进行连续侧向长晶。 | ||
申请公布号 | TW200624997 | 申请公布日期 | 2006.07.16 |
申请号 | TW094100559 | 申请日期 | 2005.01.07 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 孙铭伟 |
分类号 | G03F1/00 | 主分类号 | G03F1/00 |
代理机构 | 代理人 | 林素华 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |