发明名称 光罩与应用其形成多晶矽层之方法
摘要 一种光罩及应用其形成多晶矽层的方法。其中光罩包括一第一区域、一第二区域、一第三区域及一第四区域。第一区域具有数个第一条状不透光区及数个第一条状间隙,第一条状间隙系与第一条状不透光区平行且交错排列。第二区域具有数个第二条状不透光区及数个第二条状间隙,第二条状间隙系与第二条状不透光区平行且交错排列,第二条状间隙系与第一条状间隙平行。第三区域系位于第一区域及第二区域之间,并具有数个第三条状不透光区及数个第三条状间隙。第三条状间隙系与第三条状不透光区平行且交错排列,第三条状间隙系与第一条状间隙垂直或相对倾斜一角度。第四区域系位于第二区域及第三区域之间,并具有数个第四条状不透光区及数个第四条状间隙。第四条状间隙系与第四条状不透光区平行且交错排列,第四条状间隙系与第三条状间隙平行。形成多晶矽层之方法包括,在一基板上形成一非晶矽层。接着,利用光罩进行连续侧向长晶。
申请公布号 TW200624997 申请公布日期 2006.07.16
申请号 TW094100559 申请日期 2005.01.07
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 孙铭伟
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 林素华
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号