基板处理装置及基板处理方法

摘要

基板处理装置具备有索引器块，防止反射膜用处理块，抗蚀剂膜用处理块，乾燥／显像处理块和介面块。曝光装置配置成为邻接介面块。乾燥／显像处理块具备有乾燥处理部。介面块具备有介面用搬运机构。在曝光装置对基板施加曝光处理之后，利用介面用搬运机构将基板搬运到乾燥处理部。在乾燥处理部进行基板之洗净和乾燥。