| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。 | ||
| 申请公布号 | CN1264065C | 申请公布日期 | 2006.07.12 |
| 申请号 | CN200410043180.8 | 申请日期 | 2004.05.13 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | B·斯特雷克;J·J·M·巴塞曼斯;H·H·M·科西;A·T·A·M·德克森;S·N·L·当德斯;C·A·胡根达姆;J·洛夫;E·R·鲁斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;F·范德穆伦;J·C·H·穆肯斯;G·P·M·范努恩;K·西蒙;B·A·斯拉赫克;A·斯特拉艾杰;J·－G·C·范德图恩;M·豪克斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1、一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射装置；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影装置，而且其具有一光轴；以及液体供给装置，其用于在所述投影装置的最后元件和所述基底之间的空间中的所述基底上提供浸没液体，其特征在于：所述液体供给装置的至少一部分可自由在所述光轴方向上移动和/或围绕至少一个垂直于光轴的轴旋转。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||