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发明名称
POLYMER RESIN AND COMPOSITION FOR ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING, AND METHOD OF PATTERN FORMATION USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR20060070655(A)
申请公布日期
2006.06.26
申请号
KR20040109196
申请日期
2004.12.21
申请人
MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD.
发明人
LIM, YEON HWA
分类号
G03F7/11
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
主权项
地址
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