| 发明名称 | 高压处理装置 | ||
| 摘要 | 提供一种在净室内可设置一部分的小型结构的装置，可稳定进行高压处理的高压处理装置。一种在加压下使被处理体接触高压流体和高压流体以外的药液，去除被处理体上的无用物质的高压处理装置，具有多个高压处理室、对各高压处理室提供高压流体的公共高压流体提供单元、对各高压处理室提供药液的公共药液提供单元、从处理完上述被处理体后上述高压处理室排出的高压流体和药液的混合物中分离气体成分的分离单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1260782C | 申请公布日期 | 2006.06.21 |
| 申请号 | CN02119819.5 | 申请日期 | 2002.04.17 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所;大日本屏幕制造株式会社 | 发明人 | 山形昌弘;大柴久典;坂下由彦;井上阳一;村冈祐介;齐藤公;沟端一国雄;北门龙治 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01);B08B3/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种高压处理装置，在加压下使被处理体接触高压流体和高压流体以外的药液，去除被处理体上的无用物质，其特征在于，具有：多个高压处理室；对各高压处理室提供高压流体的公共高压流体提供单元；对各高压处理室提供药液的公共药液提供单元；从处理完上述被处理体后上述高压处理室排出的高压流体和药液的混合物中分离气体成分的分离单元。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||