| 摘要 |
本发明提供一种溅镀标靶材料。该溅镀标靶材料包含一包含Cr–C、Cr–M–C或Cr–M–1–M2–C之合金系统，其中C占至少0.5原子百分比且多达20原子百分比；M占至少0.5原子百分比且多达20原子百分比，并系选自由Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一元素；M1占至少0.5原子百分比且多达20原子百分比，并系选自由Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一元素；且M2占至少0.5原子百分比且多达10原子百分比，并系选自由Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及Te组成之群之一元素。本发明亦提供一种包含一基板及包含本发明溅镀标靶材料之至少一底层的磁记录媒体。本发明进一步提供一种制造溅镀标靶材料之方法。该方法可采用包含元素组合之粉末材料，其可包括铬合金、碳化物或含碳母合金。 |
