发明名称 |
产光酸聚合物、其制法及包括它之顶部抗反射涂布组成物 |
摘要 |
本发明揭示一种由下式1表示之产光酸聚合物:094120955-p01.bmp其中R1为C1–10烃或其中氢原子全部地或部份地经氟原子取代之C1–10烃;R2为氢或甲基;及a、b、c、与d表示各单体之莫耳比例且为约0.05至约0.9之范围,使得a、b、c、与d之和等于1。因为式1之产光酸聚合物不为水溶性且作为光酸产生剂,其可用于制备用于浸渍微影术之顶部抗反射涂布组成物。 |
申请公布号 |
TW200619852 |
申请公布日期 |
2006.06.16 |
申请号 |
TW094120955 |
申请日期 |
2005.06.23 |
申请人 |
海力士半导体股份有限公司 |
发明人 |
郑昌;卜圭;林昌文;文承灿 |
分类号 |
G03F7/11;C08F220/06;C08F220/12;C08G61/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;林荣琳 |
主权项 |
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地址 |
韩国 |