发明名称 产光酸聚合物、其制法及包括它之顶部抗反射涂布组成物
摘要 本发明揭示一种由下式1表示之产光酸聚合物:094120955-p01.bmp其中R1为C1–10烃或其中氢原子全部地或部份地经氟原子取代之C1–10烃;R2为氢或甲基;及a、b、c、与d表示各单体之莫耳比例且为约0.05至约0.9之范围,使得a、b、c、与d之和等于1。因为式1之产光酸聚合物不为水溶性且作为光酸产生剂,其可用于制备用于浸渍微影术之顶部抗反射涂布组成物。
申请公布号 TW200619852 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094120955 申请日期 2005.06.23
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 郑昌;卜圭;林昌文;文承灿
分类号 G03F7/11;C08F220/06;C08F220/12;C08G61/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 何金涂;林荣琳
主权项
地址 韩国