量测方法及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

将光照射于配置在投影光学系统(PL)之物体面侧之遮光图案(MPn)，使配置于投影光学系统像面侧之空间像测量器之狭缝(29x、29y)在垂直于投影光学系统的光轴之面内移动，并检测出透过投影光学系统及狭缝之光的光强度分布，从该光强度分布算出该投影光学系统之眩光(flare)相关资讯，如此可排除以知之烧附法所使用之涂布于晶圆上之光阻的影响，能实现高精度之眩光相关资讯之测量。又，由于不需晶圆之显影步骤等，故能以较烧附法更短时间来测量眩光相关资讯。