发明名称 半导体记忆装置
摘要 本发明系追求一种于快闪记忆体中,于微细化时由于缩短电晶体通道长度,故可抑制漏电流。具有补助电极之AND型记忆阵列,系藉由使用MOS电晶体之F-N穿隧应减少记忆胞面积,但微细化更增进时通道方向之漏电流乃变大,故写入特性之恶化、消耗电流之增大及读取不良等都成为问题。为了达成上述目的,本发明之特征系于写入及读取动作中,将相互平行配线之补助电极中至少1条之补助电极设定为负之电位,藉由将前述补助电极附近之半导体基板表面作成非导通电性,进行电性元件分离。
申请公布号 TW200617969 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094123603 申请日期 2005.07.12
申请人 瑞萨科技股份有限公司 发明人 仓田英明;大津贺一雄;世子佳孝;小林孝;有金刚
分类号 G11C16/06 主分类号 G11C16/06
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本