| 发明名称 | 一种用于辐射成像设备的指标检测装置 | ||
| 摘要 | 一种用于辐射成像设备的指标检测装置，涉及辐射成像检测技术领域。本发明包括机架及被测基板。其结构特点是，所述被测基板的两侧边中部置有在一同心的加长轴。各加长轴的顶端置有法兰盘，各法兰盘由与机架固定的支架上所设支座支撑的转轴连接。其中一转轴的顶端延伸出支座与所设减速器的输出端连接，减速器的输入端连接动力源。使用本发明装置可以使被测基板在360度范围内任意旋转，适应于不同位置加速器的入射角度，并且还能有效地减少散射的发生。 | ||
| 申请公布号 | CN1779449A | 申请公布日期 | 2006.05.31 |
| 申请号 | CN200410009893.2 | 申请日期 | 2004.11.26 |
| 申请人 | 清华同方威视技术股份有限公司 | 发明人 | 胡斌;杨光;孙尚民 |
| 分类号 | G01N23/04(2006.01);G01N23/00(2006.01) | 主分类号 | G01N23/04(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1、一种用于辐射成像设备的指标检测装置，它包括机架(10)及被测基板(3)，其特征在于，所述被测基板(3)的两侧边中部置有在一同心的加长轴(2)，各加长轴(2)的顶端置有法兰盘(6)，各法兰盘(6)由与机架(10)固定的支架(9)上所设支座(8)支撑的转轴(7)连接，其中一转轴(7)的顶端延伸出支座(8)与所设减速器(1)的输出端连接，减速器(1)的输入端连接动力源。 | ||
| 地址 | 100083北京市清华同方科技广场A座2907 | ||