发明名称 |
processos para padronização geométrica de filmes finos de óxidos condutores elétricos depositados sobre substratos |
摘要 |
"PROCESSO PARA PADRONIZAçãO GEOMéTRICA DE FILMES FINOS DE óXIDOS CONDUTORES ELéTRICOS DEPOSITADOS SOBRE SUBSTRATOS". A presente invenção se refere à fabricação de filmes finos com forma geométrica padronizada sobre um substrato. O método descrito permite controlar a área e a forma geométrica dos depósitos de filmes finos sobre um substrato, sendo particularmente adequado à deposição seletiva de filmes finos de óxidos condutores transparentes sobre substrato cerâmico ou de vidro. O método permite selecionar a área a ser depositada antes da deposição do filme fino. O substrato é recoberto por um material estável que é removido por um solvente após a deposição do filme fino, levando o filme fino sobre ele depositado consigo, visto que impede a adesão do filme fino ao substrato.
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申请公布号 |
BRPI0404368(A) |
申请公布日期 |
2006.05.30 |
申请号 |
BR2004PI04368 |
申请日期 |
2004.10.08 |
申请人 |
UNIVERSIDADE FEDERAL DO PARANA |
发明人 |
IVO ALEXANDRE HUEMMELGEN;RUDOLF LESSMANN;RODOLFO LUIZ PATYK;LUCIMARA STOLZ ROMAN |
分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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