| 发明名称 | 用于沉浸光刻装置收集液体的溢出通道 | ||
| 摘要 | 一种用于将图像传送到器件(30)的曝光装置(10)包括光学组件(16)，浸液系统(252)，以及器件载物台装配(20)。光学组件(16)位于器件(30)上间隙(246)。浸液系统(252)用浸液(248)充满间隙(246)。器件载物台装配(20)包括便于离开间隙(246)的浸液(248)远离器件(30)移动的倾斜区(282)。器件载物台装配(20)可以包括收集区(284)以及从收集区(284)中回收浸液(248)的回收系统(286)。 | ||
| 申请公布号 | CN1771463A | 申请公布日期 | 2006.05.10 |
| 申请号 | CN200480009674.2 | 申请日期 | 2004.04.01 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 托马斯·W·诺万克 |
| 分类号 | G03B27/42(2006.01) | 主分类号 | G03B27/42(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 秦晨 |
| 主权项 | 1.一种装置，包括：支架，配置以支撑器件；光学组件，配置以将图像投影到器件上；间隙，提供在器件与光学组件之间；浸液系统，其将浸液提供到间隙中；以及器件载物台装配，配置以保持支架，器件载物台装配包括提供在支架附近并且配置以便于离开间隙的浸液远离间隙而流动的倾斜区。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||