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发明名称 METHOD OF FORMING A HIGH DENSITY PLASMA INSULATING LAYER USING REMOTE PLASMA GENERATOR
摘要
申请公布号 KR20060037563(A) 申请公布日期 2006.05.03
申请号 KR20040086557 申请日期 2004.10.28
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 JEONG, YI HA;HUR, GUEN
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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