| 发明名称 |
A METHOD FOR FORMING A LAYERED SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND CORRESPONDING STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1435110(B1) |
申请公布日期 |
2006.05.03 |
| 申请号 |
EP20020774705 |
申请日期 |
2002.10.11 |
| 申请人 |
SILTRONIC AG |
发明人 |
ATTENBERGER, WILFRIED;LINDNER, JOERG;STRITZKER, BERND |
| 分类号 |
H01L21/74;B81C1/00;H01L21/02;H01L21/04;H01L21/265;H01L21/322;H01L21/324;H01L21/76;H01L21/762;H01L27/12;H01L29/165;H01L29/32;H01L33/00 |
主分类号 |
H01L21/74 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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