| 发明名称 | 真空处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的真空处理装置能够缩短装置的停止时间。该真空处理装置(100)，其装载/卸载室(10)与电浆处理室(20)连结。该电浆处理室(20)配设有，上面具有开口部(A)的真空容器(20a)，及用以开闭开口部(A)的平板状的上盖(30)。在上盖(30)的下面(真空容器(20a)侧)及上面，对称的各配置同一种的真空处理用机器(31a)及(31b)。将上盖(30)用升降机构(40)上升，再用旋转机构(50)使旋转轴(52)转动180°，然后再用升降机构(40)下降上盖(30)，可使真空处理用机器(31a)与(31b)的位置上下反转，如此则可并行实施真空处理用机器(31a)的维修及真空处理用机器(31b)的真空处理作业。 | ||
| 申请公布号 | CN1767145A | 申请公布日期 | 2006.05.03 |
| 申请号 | CN200510090792.7 | 申请日期 | 2005.08.16 |
| 申请人 | 株式会社岛津制作所 | 发明人 | 田口竜大 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/08(2006.01);H01L21/20(2006.01);H01L21/30(2006.01);B01J3/00(2006.01);C23C14/56(2006.01);C23C16/44(2006.01);C23F1/00(2006.01);C23F4/00(2006.01);H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种真空处理装置，其特征在于其包括：真空容器，用以进行被处理基板的真空处理；盖部件，用以开闭该真空容器的开口部；升降机构，使该盖部件对该真空容器装卸自在地并进移动；以及旋转机构，其转动与该盖部件连结的旋转轴，使该盖部件的表面与里面反转；在该盖部件的表里两面，对称地配置同一种的真空处理用机器。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||