用于曝光衬底的装置、该装置的光掩模和改进照明系统、以及利用该装置在衬底上形成图形的方法

摘要

一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。

主权项

1.一种光掩模，用于在被给定波长的光照射时传送相对于电路图形的图像，该光掩模包括：相对于给定波长的光透明的衬底；设置在衬底表面的至少一个线/间隔图形，该线/间隔图形包括一组沿着彼此平行方向延伸的线，以便与在其间限定间隔，所述线相对于光基本不透明；以及占据在每一个所述线/间隔图形的线之间限定的间隔的相应的格状图形，该格状图形由一组相对于光基本不透明且垂直于在其中线/间隔图形的线延伸的方向延伸的条带组成，格状图形的条带的间距小于光的波长。