发明名称 |
Verfahren und System für die Kontaminationserkennung und Überwachung in einer Lithographiebelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben der gleichen unter gesteuerten atomsphärischen Bedingungen |
摘要 |
Durch Anwenden äußerst effizienter Detektionstechniken, etwa der Chromatographie und der Absorptionsspektroskopie, können ein oder mehrere Kontaminationsstoffe erkannt und deren Konzentration quantitativ bestimmt werden. Auf diese Weise kann die nachteilige Auswirkung auf kritische Komponenten, etwa Retikel und Linsen in Form von beispielsweise abgeschiedenen anorganischen Salzen, deutlich verringert und das Prozessverhalten verbessert werden.
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申请公布号 |
DE102004047677(A1) |
申请公布日期 |
2006.04.06 |
申请号 |
DE200410047677 |
申请日期 |
2004.09.30 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. |
发明人 |
KNAPPE, UWE;OKOROANYANWU, UZODINMA |
分类号 |
G01N21/25;G01N30/00 |
主分类号 |
G01N21/25 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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