| 摘要 |
本发明系关于一种简单且低成本之基板边缘区域清洁，尤其也适用于非圆形基板之基板边缘清洁装置及一种方法，尤其是光罩及／或半导体晶圆。本装置最少含一清洗头，其上最少有一溶剂输送喷嘴与一溶剂吸出口。清洗头含一主体件，主体件上具一溶剂吸出口、与溶剂吸出口连接之溶剂吸出流道，及最少一第一凸缘，其上有一延伸出之侧平面，其导向溶剂吸出口，且基本上与主体件上溶剂吸出口所在平面垂直。在第一凸缘导向溶剂吸出口之侧平面上，其主体件有段距离之处，最少有一溶剂输送喷嘴，主要与此侧平面垂直。溶剂运送喷嘴之喷口位置较凸缘之侧平面稍微向内凹陷，或与侧平面在同一平面上。一移动装置可如此控制，在清洁时基板之一表面及向着此基板表面之凸缘侧平面间之间距，要保持在0.05公厘到0.5公厘之间，尤其不超过0.3公厘，而最好是0.2公厘。 |
