| 主权项 |
1.一种蚀刻液组成物,其特征在于:含有相对于该蚀 刻液组合物的全质量之浓度为含有高于0.1质量%低 于10质量%草酸的水溶液所构成之透明导电膜用蚀 刻液、与至少一种化合物选自相对于该蚀刻液组 合物的全质量之浓度为0.0001~10质量%聚磺酸化合物 及聚环氧乙烷-聚环氧丙烷块状共聚物之蚀刻液组 合物,其中该聚磺酸化合物系至少一种选自磺酸 甲醛缩合物及其盐类、聚苯乙烯磺酸及其盐类、 及木质磺酸及其盐类。 2.如申请专利范围第1项所述组成物,其中该透明导 电膜系氧化铟锡(ITO)膜。 3.如申请专利范围第1项所述组成物,系更进一步含 有磺酸盐型阴离子界面活性剂。 4.如申请专利范围第1项所述组成物,系更进一步含 有水溶性低碳数醇类。 5.如申请专利范围第4项所述组成物,其中该水溶性 低碳数醇类系至少一种选自甲醇、乙醇、正丙醇 、异丙醇及正丁醇。 6.如申请专利范围第4项所述组成物,其中该水溶性 低碳数醇类相对于蚀刻组合物的全质量浓度为1~10 质量%。 |
