发明名称 Method for forming silicon dioxide film using siloxane compound
摘要
申请公布号 KR100564609(B1) 申请公布日期 2006.03.29
申请号 KR20040007104 申请日期 2004.02.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址