光罩修正方法

摘要

一种光罩修正方法，系用以修正光罩中不正确的遮光缺陷，待修补之光罩包含透光基材、光罩图案与透光区，光罩图案与透光区形成于透光基材表面，且透光区内具有遮光缺陷，其修正流程系于透光基材表面涂布保护层，以覆盖光罩图案与透光区，再以能量束或微探针等方式去除对应遮光缺陷处的保护层，露出遮光缺陷表面，最后，进行蚀刻程序，去除未被保护层覆盖之遮光缺陷。