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Procedimiento de revestimiento de un soporte (10) que comprende un primer material por una capa de revestimiento que comprende un segundo material, comprendiendo por lo menos una fase (A, A¿) de depósito de una capa de espesor dado de material coherente (11, 13) sobre la superficie del soporte durante la cual se utiliza una fuente (20) de plasma situada en un plasma ambiente, caracterizado porque cada fase (A, A¿) de depósito de material es seguida de una fase (B, B¿) de exposición del soporte y de la capa de material (11, 13) depositado a una pulsación de duración limitada de un bombardeo (21) de iones de alta densidad de energía de nivel de densidad de energía elegido, siendo la duración de pulsación y el nivel de energía de los iones bombardeados durante la fase (B, B¿) de exposición a una pulsación de bombardeo de iones elegidos de manera que estos iones atraviesen el espesor de la capa de material depositada cuando tiene lugar la fase (A, A¿) de depósito de material que precede a dichafase (B, B¿) de exposición a una pulsación de bombardeo de iones, para disipar la energía que les queda después de este atravesado en una región inmediatamente adyacente al fondo de dicha capa de material depositada.
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