| 主权项 |
1.一种微影投影设备,其包括: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束; -一支撑结构,用以支撑图案化构件,该图案化构件 系用以根据一预期图案来图案化该投影光束; -一基板固定器,用以固定一基板,该基板固定器具 备构件,用以提供固定力量将该基板挤压于该基板 固定器之上; -释放构件,用以施加一释放力量来抵消该固定力 量,以便从该基板固定器中释放该基板;以及 -一投影系统,用于将该已图案化的光束投影至该 基板的一目标部份之上; 其特征为: -该微影投影设备包括一控制器,用于施加于最后 释放之前会降低的一释放力量。 2.如请求项1之微影投影设备,其中该释放力量系受 控的,致使最后释放处的释放力量会小于最大释放 力量的70%。 3.如请求项2之微影投影设备,其中该释放力量系受 控于相对该释放构件的预定释放高度来控制。 4.如请求项1至3中任一项之微影投影设备,其中该 释放力量经选择后会产生2mrad的最大偏离角。 5.如请求项4之微影投影设备,其中一200mm晶圆的预 定释放高度会小于1.0mm,较佳系小于0.5mm。 6.如请求项1至3中任一项之微影投影设备,其中该 基板固定器包括一保护框边,用以吸收磨耗能量。 7.如请求项1至3中任一项之微影投影设备,其中该 基板固定器包括复数个突出部,其端点会定义一实 质平坦的支撑平面,用以支撑一实质平坦的基板。 8.一种微影投影设备,其包括: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束; -一支撑结构,用以支撑图案化构件,该图案化构件 系用以根据一预期图案来图案化该投影光束; -一基板固定器,用以固定一基板,该基板固定器具 备构件,用以提供固定力量将该基板挤压于该基板 固定器之上; -释放构件,用以施加一释放力量来抵消该固定力 量,以便从该基板固定器中释放该基板;以及 -一投影系统,用于将该已图案化的光束投影至该 基板的一目标部份之上; 其特征为: -该基板固定器包括一保护框边,用以吸收磨耗能 量。 9.一种装置制造方法,其包括下列步骤: -提供一至少部份被一层辐射敏感材料所覆盖的基 板; -提供一固定力量,用以将该基板挤压于一基板固 定器之上; -利用一辐射系统提供一辐射投影光束; -利用图案化构件于该投影光束的剖面中赋予一图 案; -将该已图案化的辐射光束投影至该层辐射敏感材 料的一目标部份之上; -施加一释放力量,用以抵消该固定力量,以便从该 基板固定器中释放该基板;以及 -控制该释放构件,以便施加一于最后释放之前会 降低的释放力量。 10.如请求项9之方法,其中该方法包括相对于该释 放构件的释放高度来控制该释放构件的步骤。 11.如请求项10之方法,其中该释放力量及/或该释放 高度系决定以反覆方式于制程中。 12.如请求项10或11之方法,其中该释放力量及/或该 释放高度系以最近制程中被施加的释放力量及/或 释放高度为基础来加以决定。 13.一种装置制造方法,其包括下列步骤: -提供一至少部份被一层辐射敏感材料所覆盖的基 板; -提供一固定力量,用以将该基板挤压于一基板固 定器之上; -利用一辐射系统提供一辐射投影光束; -利用图案化构件于该投影光束的剖面中赋予一图 案; -将该已图案化的辐射光束投影至该层辐射敏感材 料的一目标部份之上; -施加一释放力量,用以抵消该固定力量,以便从该 基板固定器中释放该基板;以及 -以反覆方式于制程中决定出该释放力量及/或该 释放高度。 14.如请求项10或11之方法,其中该释放力量及/或该 释放高度系以最近制程中被施加的释放力量及/或 释放高度为基础来加以决定。 图式简单说明: 图1为根据本发明一具体实施例的一微影投影设备 ; 图2为从晶圆固定器中释放一晶圆的初始阶段; 图3为从晶圆固定器中释放一晶圆的最后阶段; 图4为最后的释放阶段中,该晶圆及该晶圆固定器 的细部示意图; 图5为从晶圆固定器中弹出一晶圆的惯用力量关系 图; 图6为根据本发明之晶圆的弹出控制的修正力量关 系图; 图7为最后的释放阶段期间,被该晶圆固定器吸收 的能量关系图。 |
