| 发明名称 |
湿蚀刻设备 |
| 摘要 |
本实用新型提供一种湿蚀刻设备，包括呈顺序排布的：其包括呈顺序排布的：一承载与缓冲区，一第一蚀刻室，一采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室，一第二蚀刻室，一漂洗与干燥传送区。 |
| 申请公布号 |
CN2763268Y |
申请公布日期 |
2006.03.08 |
| 申请号 |
CN200420103599.3 |
申请日期 |
2004.12.30 |
| 申请人 |
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
发明人 |
高胜洲;黄荣龙;欧振宪;邱立峰 |
| 分类号 |
C03C15/00(2006.01) |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
1.一种湿蚀刻设备，包括呈顺序排布的：一承载与缓冲区，一第一蚀刻室，一采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室，一第二蚀刻室，一漂洗与干燥传送区。 |
| 地址 |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |
