发明名称 Verfahren zur Bildung einer Isolierschicht und Verfahren zur Herstellung eines Grabenkondensators
摘要
申请公布号 DE60106011(T2) 申请公布日期 2006.03.02
申请号 DE20016006011T 申请日期 2001.07.23
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHNEIDER, TORSTEN;SPULER, BRUNO;DRABE, CHRISTIAN;HAENSEL, JANA;KRASEMANN, ANKE;LORENZ, BARBARA;MORGENSTERN, DR.
分类号 H01L21/311;H01L21/334;H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/94 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人
主权项
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