移除金属氧化物的方法、接触结构及其形成方法、以及化学机械研磨装置之清洁设备

摘要

本发明乃揭露一种形成接触结构之方法、接触结构及其形成方法与所应用之装置。形成接触结构之方法乃包括于一基底上形成一介电层，于此介电层中形成一金属接触，而此金属接触乃具有一金属氧化物位于其上方，以及藉使用温度高于约10℃的水或温度高于约15℃的化学品以增进金属氧化物的溶解度。