发明名称 |
图形化掩模保持设备和使用两个保持系统的方法 |
摘要 |
一种系统和方法,用于在曝光操作的扫描部分期间,消除或基本上减少图形发生器相对于图形发生器保持设备的滑动。在第一和第二例子中,通过(a)连续地或(b)当需要时同时地利用第一和第二图形发生器保持系统以将图形发生器固定到图形发生器保持设备上来实现上述效果。在这些例子中,第一图形发生器保持系统采用静电系统将图形发生器吸引到图形发生器保持设备上,第二图形发生器保持系统采用真空系统将图形发生器吸引到图形发生器保持设备上。 |
申请公布号 |
CN1740910A |
申请公布日期 |
2006.03.01 |
申请号 |
CN200510091569.4 |
申请日期 |
2005.08.23 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
D·N·加尔伯特 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
寇英杰 |
主权项 |
1.一种系统,包括:图形化掩模保持设备;与图形化掩模保持设备相连的第一图形化掩模保持系统,该系统将图形化掩模与图形化压模保持设备可释放地相连;与图形化掩模保持设备相连的第二图形化压模摸保持系统,该第二图形化掩模保持系统用于与第一图形化掩模保持系统同时操作从而将图形化掩模与图形化掩模保持设备可释放地相连;及与图形化掩模保持设备相连的移动设备,该移动设备在曝光操作的扫描部分期间移动图形化掩模保持设备和图形化掩模。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |